Apple тестирует новую технологию защиты от бликов в объективе в iPhone 16

Apple приступила к тестированию новой технологии покрытия объективов для своих будущих моделей iPhone 16 Pro и iPhone 16 Pro Max. Предполагается, что она позволит избавиться от бликов на фотографиях.

Как утверждают источники внутри компании, речь идёт о методике атомно-слоевого осаждения (ALD), которая позволяет наносить материалы слой за слоем на атомном уровне. Это обеспечивает высокую точность в контроле толщины и состава покрытия.

Технология ALD уже нашла широкое применение в производстве полупроводников, а теперь Apple планирует использовать её для улучшения качества объективов своих камер. Основное преимущество такого подхода заключается в возможности создавать антибликовые покрытия, которые значительно снижают визуальные помехи, такие как полосы света и ореолы, возникающие при съемке в направлении ярких источников света.

Также ожидается, что благодаря ALD будет достигнуто уменьшение искажений на фотографиях, например, появления слабых второстепенных изображений, особенно при сильном контрасте света. Это нововведение может значительно повысить качество снимков, сделанных на iPhone 16 Pro и iPhone 16 Pro Max, уменьшив количество бликов и других артефактов на фотографиях.