В России создадут аналоги западных установок для производства чипов почти за 2 млрд рублей

Минпромторг запустил два проекта по импортозамещению оборудования для эпитаксии — ключевого этапа изготовления микросхем. Отечественные установки должны заменить системы из США, Франции и Нидерландов, поставки которых в Россию прекращены.

Минпромторг профинансирует разработку российского оборудования для эпитаксии — технологии выращивания на полупроводниковой пластине тонких слоёв материалов, без которой невозможно изготовление современных микросхем. Как выяснил CNews, два запущенных проекта должны заменить установки американской Veeco, французской Riber и нидерландской ASM, поставки которых в Россию заблокированы из-за санкций. Суммарно на оба проекта выделено около 2 млрд рублей.

Первый проект — «Эпитаксия-SiGe» с бюджетом 463,7 млн рублей. В его рамках нужно создать установку для выращивания слоёв кремний-германия на кремниевых пластинах диаметром 200 мм методом газофазной эпитаксии — аналог нидерландской системы ASM Epsilon 2000. По техническому заданию исполнитель должен разработать реактор, робот-загрузчик и модуль очистки поверхности пластин перед нанесением слоёв. Срок завершения — июнь 2029 года.

Второй проект, «Цитадель», получил 1,5 млрд рублей. Это установка молекулярно-лучевой эпитаксии для получения гетероструктур на основе соединений индия, алюминия, галлия и арсенида — такие материалы используются в высокочастотной и оптоэлектронике. Российская система должна заменить оборудование Riber 49 из Франции и Veeco GEN200 из США. Работы планируется завершить к октябрю 2030 года.